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一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程
2021年12月11日 7.针对现有技术存在的二氧化硅磨料存在使用寿命短，抛光效率低等问题，本发明提出了一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途，采用分段碱催化和恒液面聚合生长法，得到了具有高硬度、高保形性 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程2021年12月11日 7.针对现有技术存在的二氧化硅磨料存在使用寿命短，抛光效率低等问题，本发明提出了一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途，采用分段碱催化和恒液面聚合生长法，得到了具有高硬度、高保形性
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二氧化硅在磨料和抛光中的应用_百度文库
制备二氧化硅磨料，主要是通过熔融法制备磨粒。 其原材料主要是天然石英石或人造石英石，将其熔融后制成高纯度的石英玻璃，飞溅成颗粒状物质后，经过筛选机筛选出需要的粒 二氧化硅在磨料和抛光中的应用_百度文库制备二氧化硅磨料，主要是通过熔融法制备磨粒。 其原材料主要是天然石英石或人造石英石，将其熔融后制成高纯度的石英玻璃，飞溅成颗粒状物质后，经过筛选机筛选出需要的粒
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一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法[发明专利]_百度文库
摘要：一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料 抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内， 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法[发明专利]_百度文库摘要：一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料 抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，
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二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程
2021年11月24日 二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程. 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法，尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，属于研磨抛光材料的生产制备技 二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程2021年11月24日 二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程. 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法，尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，属于研磨抛光材料的生产制备技
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二氧化硅抛光液_百度百科
氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。 如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝 二氧化硅抛光液_百度百科氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。 如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝
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电子级二氧化硅纳米磨料和抛光液 _科创中国
2023年8月11日 针对常规离子交换法难以制备出纯度高、粒径均匀的大粒径胶体SiO2磨料的国际技术难题，提出了一种改进的离子交换法，通过低阴离子浓度水玻璃制备技术、硅酸 电子级二氧化硅纳米磨料和抛光液 _科创中国2023年8月11日 针对常规离子交换法难以制备出纯度高、粒径均匀的大粒径胶体SiO2磨料的国际技术难题，提出了一种改进的离子交换法，通过低阴离子浓度水玻璃制备技术、硅酸
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纳米二氧化硅的制备方法----上海硅酸盐工业协会
纳米二氧化硅的制备方法. 纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”，它的表面带有羟基，粒径小于100nm , 通常为2 0 ~6 0nm，化学纯度高，分散性好，比表面积大。. 纳米二氧化硅对波 纳米二氧化硅的制备方法----上海硅酸盐工业协会纳米二氧化硅的制备方法. 纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”，它的表面带有羟基，粒径小于100nm , 通常为2 0 ~6 0nm，化学纯度高，分散性好，比表面积大。. 纳米二氧化硅对波
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固体硅芯/介孔硅壳复合磨料：CMP的合成，表征及介孔壳结构 ...
2017年11月28日 包含固体二氧化硅（sSiO 2）核和中孔二氧化硅（mSiO 2）壳的二氧化硅基复合磨料颗粒由于其特殊的机械和/或化学特性，在高效且无损伤的化学机械抛 固体硅芯/介孔硅壳复合磨料：CMP的合成，表征及介孔壳结构 ...2017年11月28日 包含固体二氧化硅（sSiO 2）核和中孔二氧化硅（mSiO 2）壳的二氧化硅基复合磨料颗粒由于其特殊的机械和/或化学特性，在高效且无损伤的化学机械抛
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耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用 - 豆丁网
2024年1月13日 本发明提供了一种成本低、工艺简单、过程可控、可规模化生产的磨擦型二氧化硅的制备方法，该方法制得的磨擦型二氧化硅具有稳定性好，对其他物体的磨损程度 耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用 - 豆丁网2024年1月13日 本发明提供了一种成本低、工艺简单、过程可控、可规模化生产的磨擦型二氧化硅的制备方法，该方法制得的磨擦型二氧化硅具有稳定性好，对其他物体的磨损程度
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一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法[发明专利]_百度文库
摘要：一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料 抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的 动力下，通过质量流量计将溶解的磨料IIห้องสมุดไป่ ... 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法[发明专利]_百度文库摘要：一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料 抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的 动力下，通过质量流量计将溶解的磨料IIห้องสมุดไป่ ...
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一种非球形胶体二氧化硅纳米颗粒制备方法与流程
本发明涉及一种非球形胶体二氧化硅制备方法，尤其涉及一种非球形胶体二氧化硅纳米颗粒制备方法，属于化学机械抛光工艺领域，尤其属超硬材抛光加工领域。背景技术胶体二氧化硅纳米颗粒广泛应用于印刷、造纸、照 一种非球形胶体二氧化硅纳米颗粒制备方法与流程本发明涉及一种非球形胶体二氧化硅制备方法，尤其涉及一种非球形胶体二氧化硅纳米颗粒制备方法，属于化学机械抛光工艺领域，尤其属超硬材抛光加工领域。背景技术胶体二氧化硅纳米颗粒广泛应用于印刷、造纸、照
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碳化硅检测项目及相关标准和方法磨料金属氧化镁二氧化硅 ...
2024年3月20日 A: GB/T 3045是《普通磨料 碳化硅化学分析方法》的国家标准，它规定了对碳化硅各种成分进行测定的方法和步骤，包括表面杂质、二氧化硅、游离硅、游离碳、酸处理失量、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙和氧化镁等。. 该标准参考了国际标准ISO 9286:1997 ... 碳化硅检测项目及相关标准和方法磨料金属氧化镁二氧化硅 ...2024年3月20日 A: GB/T 3045是《普通磨料 碳化硅化学分析方法》的国家标准，它规定了对碳化硅各种成分进行测定的方法和步骤，包括表面杂质、二氧化硅、游离硅、游离碳、酸处理失量、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙和氧化镁等。. 该标准参考了国际标准ISO 9286:1997 ...
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一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程 - X技术网
2021年12月11日 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程. 1.本发明属于研磨抛光材料技术领域，尤其涉及一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途。. 2.硅溶胶本质上是纳米二氧化硅磨料平均分散在水或化学溶剂中，因其优秀的稳定性、耐温性及悬浮性等被广泛应 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程 - X技术网2021年12月11日 一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途与流程. 1.本发明属于研磨抛光材料技术领域，尤其涉及一种纳米二氧化硅磨料及其制备方法和用途。. 2.硅溶胶本质上是纳米二氧化硅磨料平均分散在水或化学溶剂中，因其优秀的稳定性、耐温性及悬浮性等被广泛应
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用于牙膏的二氧化硅磨料的制作方法 - X技术网
1999年8月4日 本发明涉及特别适用于牙膏组合物的沉淀法二氧化硅磨料，它们的制备方法，它们在牙膏组合物中的用途，尤其是常见用途，以及含所述二氧化硅的牙膏组合物。基于牙膏组合物应具有高质量的清洁能力，在所述组合物中通常使用高质量的二氧化硅磨料，它们使所述组合物具有清洁能力；但是，由于 ... 用于牙膏的二氧化硅磨料的制作方法 - X技术网1999年8月4日 本发明涉及特别适用于牙膏组合物的沉淀法二氧化硅磨料，它们的制备方法，它们在牙膏组合物中的用途，尤其是常见用途，以及含所述二氧化硅的牙膏组合物。基于牙膏组合物应具有高质量的清洁能力，在所述组合物中通常使用高质量的二氧化硅磨料，它们使所述组合物具有清洁能力；但是，由于 ...
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CN101307211A - 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法 ...
2007年5月15日 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌 ... CN101307211A - 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法 ...2007年5月15日 一种纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，涉及一种微晶玻璃加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液的生产方法。先将磨料II均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料II液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料I进行混合并充分搅拌 ...
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国内外15家二氧化硅生产企业介绍 - 艾邦高分子 艾邦智造官网
2 天之前 二氧化硅（ 化学式 ： SiO 2 ）是一种 酸性氧化物，对应 水化物 为 硅酸 （ H 2 SiO 3 ）。 它自古便为人所知。二氧化硅在自然界中最常见的是 石英，以及在各种生物体中。在世界的许多地方，二氧化硅是 砂 的主要成分。 二氧化硅按制造方法分类，可 ... 国内外15家二氧化硅生产企业介绍 - 艾邦高分子 艾邦智造官网2 天之前 二氧化硅（ 化学式 ： SiO 2 ）是一种 酸性氧化物，对应 水化物 为 硅酸 （ H 2 SiO 3 ）。 它自古便为人所知。二氧化硅在自然界中最常见的是 石英，以及在各种生物体中。在世界的许多地方，二氧化硅是 砂 的主要成分。 二氧化硅按制造方法分类，可 ...
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碳化硅检测项目及相关标准和方法二氧化硅氧化镁碳化硅 ...
2024年3月20日 A: GB/T 3045是《普通磨料 碳化硅化学分析方法》的国家标准，它规定了对碳化硅各种成分进行测定的方法和步骤，包括表面杂质、二氧化硅、游离硅、游离碳、酸处理失量、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙和氧化镁等。 碳化硅检测项目及相关标准和方法二氧化硅氧化镁碳化硅 ...2024年3月20日 A: GB/T 3045是《普通磨料 碳化硅化学分析方法》的国家标准，它规定了对碳化硅各种成分进行测定的方法和步骤，包括表面杂质、二氧化硅、游离硅、游离碳、酸处理失量、碳化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙和氧化镁等。
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2023年全球市场二氧化硅磨料抛光液总体规模、主要生产商 ...
2023年8月17日 内容摘要. 据GIR (Global Info Research)调研，按收入计，2022年全球二氧化硅磨料抛光液收入大约1473.5百万美元，预计2029年达到1999.8百万美元，2023至2029期间，年复合增长率CAGR为 4.5%。. 同时2022年全球二氧化硅磨料抛光液销量大约 ，预计2029年将达到 。. 2022年中国市场 ... 2023年全球市场二氧化硅磨料抛光液总体规模、主要生产商 ...2023年8月17日 内容摘要. 据GIR (Global Info Research)调研，按收入计，2022年全球二氧化硅磨料抛光液收入大约1473.5百万美元，预计2029年达到1999.8百万美元，2023至2029期间，年复合增长率CAGR为 4.5%。. 同时2022年全球二氧化硅磨料抛光液销量大约 ，预计2029年将达到 。. 2022年中国市场 ...
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二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程
2021年11月24日 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法，尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，属于研磨抛光材料的生产制备技术领域。背景技术： 2.研磨抛光剂或通常所说的研磨抛光液，是不同于固结磨具、涂覆磨具的另一类“磨具”，是一种将磨料在分散剂中均匀、游离分布所形成的“磨具”，研磨 ... 二氧化硅研磨抛光剂的制备方法与流程2021年11月24日 1.本发明涉及一种研磨抛光剂的制备方法，尤其涉及一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，属于研磨抛光材料的生产制备技术领域。背景技术： 2.研磨抛光剂或通常所说的研磨抛光液，是不同于固结磨具、涂覆磨具的另一类“磨具”，是一种将磨料在分散剂中均匀、游离分布所形成的“磨具”，研磨 ...
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重量法测定磨料原材料中的二氧化硅_技术_磨料磨具网_磨料 ...
2011年6月23日 摘要 本文研究了以CTMAB为沉淀剂 重量法 测定二氧化硅的新方法。. 该方法具有省时、节能、准确度高等特点，用于粘土及石榴石中二氧化硅的测定，结果令人满意。. 主题词 二氧化硅 CTMAB 重量法. 生产 磨料 的原料在自然界分布很广，绝大多数硅酸盐是不 重量法测定磨料原材料中的二氧化硅_技术_磨料磨具网_磨料 ...2011年6月23日 摘要 本文研究了以CTMAB为沉淀剂 重量法 测定二氧化硅的新方法。. 该方法具有省时、节能、准确度高等特点，用于粘土及石榴石中二氧化硅的测定，结果令人满意。. 主题词 二氧化硅 CTMAB 重量法. 生产 磨料 的原料在自然界分布很广，绝大多数硅酸盐是不
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电子级二氧化硅纳米磨料和抛光液 _科创中国
2023年8月11日 采用自主研发的高纯二氧化硅为磨料，研发出具有高抛光速率、高抛光表面质量、循环寿命长、易清洗的硅片边抛、粗抛和精抛等系列硅片抛光液，大规模实现进口替代，产品应用300mm硅片的抛光。. 研制出高效的碳化硅粗抛和精抛抛光液，具有抛光效率 电子级二氧化硅纳米磨料和抛光液 _科创中国2023年8月11日 采用自主研发的高纯二氧化硅为磨料，研发出具有高抛光速率、高抛光表面质量、循环寿命长、易清洗的硅片边抛、粗抛和精抛等系列硅片抛光液，大规模实现进口替代，产品应用300mm硅片的抛光。. 研制出高效的碳化硅粗抛和精抛抛光液，具有抛光效率
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二氧化硅抛光液_百度百科
高纯度低金属离子型抛光产品. 氧化硅抛光液是以高纯度 硅粉 为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。. 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。. 如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、 宝石 等的抛光加工。. 中文名. 氧化硅抛光液 ... 二氧化硅抛光液_百度百科高纯度低金属离子型抛光产品. 氧化硅抛光液是以高纯度 硅粉 为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。. 广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。. 如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、 宝石 等的抛光加工。. 中文名. 氧化硅抛光液 ...
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耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用 - 豆丁网
2024年1月13日 CN115849395耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用技术领域 [0001]本发明涉及化工原料制备技术领域，具体涉及一种耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用。. 背景技术 [0002]二氧化硅粉末物理化学性质稳定，在大规模生产上一般采用直接沉淀法制备，而采用 耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用 - 豆丁网2024年1月13日 CN115849395耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用技术领域 [0001]本发明涉及化工原料制备技术领域，具体涉及一种耐磨擦型二氧化硅及其制备方法和应用。. 背景技术 [0002]二氧化硅粉末物理化学性质稳定，在大规模生产上一般采用直接沉淀法制备，而采用
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纳米二氧化硅的制备方法----上海硅酸盐工业协会
化学法：制备纳米sio2的化学法主要为:以卤化硅为原料的气相法、以水玻璃为原料的沉淀法和以硅酸酯为前驱体的溶胶—凝胶法。. 气相法是制备高纯度sio2的主要方法，产品的原生粒径分布窄、分散度好,但具有工艺复杂、对设备要求苛刻且原料成本高等缺点 ... 纳米二氧化硅的制备方法----上海硅酸盐工业协会化学法：制备纳米sio2的化学法主要为:以卤化硅为原料的气相法、以水玻璃为原料的沉淀法和以硅酸酯为前驱体的溶胶—凝胶法。. 气相法是制备高纯度sio2的主要方法，产品的原生粒径分布窄、分散度好,但具有工艺复杂、对设备要求苛刻且原料成本高等缺点 ...
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固体硅芯/介孔硅壳复合磨料：CMP的合成，表征及介孔壳结构 ...
2017年11月28日 和mSiO 2的作用进一步研究了二氧化硅基复合材料的壳结构对氧化物CMP性能和结构稳定性的影响。. TEM和XRD分析表明，相对于sSiO 2 / D-mSiO 2颗粒，sSiO 2 / W-mSiO 2复合材料在二氧化硅壳中表现出改善的介孔组织。. 抛光结果表明，用所获得的二氧化硅基复合磨料精加工 ... 固体硅芯/介孔硅壳复合磨料：CMP的合成，表征及介孔壳结构 ...2017年11月28日 和mSiO 2的作用进一步研究了二氧化硅基复合材料的壳结构对氧化物CMP性能和结构稳定性的影响。. TEM和XRD分析表明，相对于sSiO 2 / D-mSiO 2颗粒，sSiO 2 / W-mSiO 2复合材料在二氧化硅壳中表现出改善的介孔组织。. 抛光结果表明，用所获得的二氧化硅基复合磨料精加工 ...
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二氧化硅磨料-二氧化硅石英砂一看便知-中玻网 - glass
2015年11月27日 登封市奥凯喷砂磨料有限公司在本网的商铺奥凯产品简介奥凯喷砂磨料公司生产的棕刚玉砂、喷砂磨料以 ... 2008-07-31 申请号：200710022290.X申请日：2007.05.11名称：微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法公开(公告)号 ... 二氧化硅磨料-二氧化硅石英砂一看便知-中玻网 - glass2015年11月27日 登封市奥凯喷砂磨料有限公司在本网的商铺奥凯产品简介奥凯喷砂磨料公司生产的棕刚玉砂、喷砂磨料以 ... 2008-07-31 申请号：200710022290.X申请日：2007.05.11名称：微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法公开(公告)号 ...
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